硅膠產(chǎn)品怎么去除靜電,解決表面防塵問題
要生產(chǎn)出令客戶滿意的硅橡膠制品,表面處理工藝就很重要,除了印刷之外,還有就是要做好防塵。因為硅膠含有靜電,這就使得產(chǎn)品很容易吸附灰塵、雜質(zhì)和毛發(fā)。那么硅膠產(chǎn)品怎么去除靜電,解決表面防塵問題呢?
理論上,硅膠表面存有氧氣原子,帶負(fù)極和靜電,塵粒則帶有正極,因此塵粒和硅膠靜電表面可互相吸引,使表面沾塵難于清理,影響產(chǎn)品外觀。針對硅膠表面容易沾塵的問題,硅膠制品廠致力研究解決方案,結(jié)果發(fā)現(xiàn),利用等離子表面改性技術(shù)可改善有關(guān)表現(xiàn),最終成功以等離子體輔助化學(xué)氣相沉積(PECVD)技術(shù),達(dá)到優(yōu)化產(chǎn)品表面性質(zhì)的效果。
受靜電影響,一般硅膠容易沾塵,廠商若以傳統(tǒng)化學(xué)涂層方法,防塵及潤滑涂層功效只可維持?jǐn)?shù)個月。好的方法是以等離子能量將硅膠表面的氧氣原子改性,將負(fù)極硅膠表面改為正極,過程中使用無害的有機(jī)化學(xué)品,不會排出污染廢料,因此是清潔生產(chǎn)工藝。其較低靜電量特質(zhì),防塵效用高,適用于手表表帶等,亦可用于醫(yī)療設(shè)備。
等離子體表面處理技術(shù)適用于纖維、聚合物和塑膠等物料,亦可應(yīng)用于清洗、活化及蝕刻金屬、塑膠與陶瓷材料的表面部分,改變材料表面的物理特征。硅膠產(chǎn)品防塵處理環(huán)保工藝,可有效解決硅膠靜電、容易沾塵問題,延長產(chǎn)品壽命,是一種硅膠表面處理工藝。它可應(yīng)用于所有硅膠及相關(guān)產(chǎn)品。
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù)(HPPMS)是結(jié)合「高能量」和「脈沖式」兩大特征的新型磁控濺射系統(tǒng)。在鍍層過程上,電源扮演重要的角色,采用「高能量」和「脈沖式」的放電方式,可于少于2微秒的短時間,發(fā)出高達(dá)1500V輸出電壓的強(qiáng)大能量,猶如閃電現(xiàn)象。由于過程中釋放大量的離子,消除鍍膜的內(nèi)應(yīng)力,因此可制成厚離子鍍層,無損產(chǎn)品或工件的表面。這種方式可提高離化率(IonizationRate),即改善涂層在產(chǎn)品表面的附著力。
高能量脈沖式等離子磁控濺射技術(shù),能超越傳統(tǒng)的磁控濺射方法,制作出高質(zhì)量多于3μm的厚離子鍍層。由于高能量脈沖方式有利增加離子的密度,不但加強(qiáng)鍍層與底材之間的接合力,亦可減低表面粗糙度,在功能性部件上可進(jìn)一步增強(qiáng)耐磨性能及減少替換次數(shù)。
對裝飾性強(qiáng)的硅膠產(chǎn)品來說,可保持外觀及更耐用,因此以高能量脈沖式制作鍍層,能有效利用等離子體,從而控制涂層的結(jié)構(gòu),其特點(diǎn)是可沉積在光滑致密的微細(xì)結(jié)構(gòu),提升耐腐蝕性及表面光潔度。又或是可沉積在復(fù)雜的幾何工件之上,達(dá)致更均勻的涂層。
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