光學(xué)鍍膜如何運(yùn)用在硅膠制品行業(yè)里
硅膠制品光鍍是指將金屬(或介質(zhì))膜(或多層金屬)鍍?cè)诠鈱W(xué)零件表面的工藝過程。光電器件表面鍍膜的目的是達(dá)到減少或增加光的反射性、分束性、分色性、濾光性和偏振性等。通常采用的鍍膜方法是真空鍍(物理鍍)和化學(xué)鍍。
光涂層原理:
負(fù)壓電鍍主要是指需要在較高真空下進(jìn)行電鍍,包括真空離子蒸發(fā)、磁控濺射、 MBE分子束外延、 PLD激光濺射沉積等,所以。蒸發(fā)器和濺射器通用。用鍍層材料制成基材,用鍍層材料作為靶材或藥材?;w和靶體在同一真空狀態(tài)下。
蒸發(fā)層通常是加熱的目標(biāo),將表面成分蒸發(fā)成自由基或離子,然后通過合成沉積在基底上,膜層上。關(guān)于濺射涂層,很容易理解,目標(biāo)材料被電子或高能激光轟擊,表面成分以自由基或離子的形式濺射,最后沉積在基體表面,形成薄膜。
常用光學(xué)涂層材料有以下幾種:
無色晶系粉末,純度高,用它制備光學(xué)鍍膜,能提高透光性,不產(chǎn)生崩點(diǎn)。
高熔點(diǎn)、硬度、化學(xué)穩(wěn)定性良好的無色透明晶體。采用該工藝制備的優(yōu)質(zhì)Si02涂層,具有良好的蒸發(fā)狀態(tài),無崩點(diǎn)。按用途可分為紫外線、紅外線和可見光用。
重質(zhì)結(jié)晶態(tài),折射率高,耐高溫性好,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,可制得優(yōu)質(zhì)氧化鋯涂層,無崩點(diǎn)。
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